第三百六十一章 确保原型机隐形效果（2 / 2）

说：“我建议我们可以尝试使用原子层沉积（ALD）技术。这种技术可以在原子级别上控制薄膜的生长，从而实现极高的厚度精度和均匀性。”

小林点头表示同意：“ALD技术是一个不错的选择，此外，我们还可以结合化学气相沉积（CVD）技术来优化涂层过程，通过精细控制化学反应的条件，可能会有所突破。”